- 加热炉设备
- 晶体及材料
- 破碎/球磨设备
- 压片设备
- 辊压设备
- 切割设备
- 磨抛设备
- 清洗设备
- 电池研发设备
- 薄膜制备
- 配件
- 其它实验室设备
Al2O3+YBCO薄膜10x10x0.5 mm
- 产品概述：
免责声明：
本站产品介绍内容（包括产品图片、产品描述、技术参数等）仅用于宣传用途，仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差，请勿复制或者截图。如果您对参数有异议，或者想了解产品详细信息及更多参数，请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺，请勿将此参数用于招标文件或者合同，科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息，恕不另行通知，请您谅解。
如果您需要下载产品的电子版技术文档，说明书（在线阅览），装箱单，与售后安装条件等文件，请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户，购买前请与工作人员沟通，以免给您带来不便。
技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| Main Specifications of HTS Film
|
Epitaxial thin Film Composition | <100> YBCO | Film dimension both for one side or double side film | YBCO / LaAlO3 10x10 mm ~ 3" dia. YBCO / LSAT 10x10 mm ~ 2" dia. YBCO / Al2O3 10x10 mm ~3" dia YBCO / STO 10x10 mm ~ 1" dia. | Epitaxial FWHM | < 0.2 o | Critical Transition Temperature Tc | > 90 K | Transition Temp. range ΔTc | < 0.5 K | Critical Current Jc | 2~3 MA/cm2 @ 77K 0T | Surface Resistivity Rs | < 1 m Ohm @ 10 GHz, 77K, 0T | Thin film thickness | 200 ~ 500 nm upon request , | Uniformity for 2" wafer | Thickness 400 nm +/- 10 % Tc 90K +/- 1 o Jc 3 +/-0.5 MA/cm2 @ 80% wafer center. | Package | Sealed in Vacuum in a plastic box and bag. |
Double side 3" YBCO film on LaAlO3 Jc Uniformity measured FZK XRD pattern of Epi YSCO Film on LAO Note: YBCO is very sensitive to moisture, and must be stored in desiccator box.
|
免责声明：
本站产品介绍内容（包括产品图片、产品描述、技术参数等）仅用于宣传用途，仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差，请勿复制或者截图。如果您对参数有异议，或者想了解产品详细信息及更多参数，请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺，请勿将此参数用于招标文件或者合同，科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息，恕不另行通知，请您谅解。
如果您需要下载产品的电子版技术文档，说明书（在线阅览），装箱单，与售后安装条件等文件，请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户，购买前请与工作人员沟通，以免给您带来不便。
查看诚信档案
皖公网安备 34012302000974号
